何强 | 超分辨率热敏相变光刻技术

何强，33岁，华中科技大学集成电路学院副教授。

传统光学光刻基于有机光刻胶材料，受制于光学衍射物理限制，在65nm以下制程需要结合多重曝光、自组装等分辨率增强技术满足工艺需求。光刻胶市场几乎被美日垄断，我国面临断供风险，在下游需求持续增长背景下，亟需“换道超车”的新型光刻胶材料及光刻技术。

此项绝活通过利用相变材料晶态/非晶态区域能够被碱性或酸性溶液选择性刻蚀的原理来形成图案。攻克了相变光刻技术关键材料、曝光及显影工艺，开发了光刻系统及工艺原型。实现了超越光学衍射极限的光刻分辨率，利用成熟制程（405nm）光源实现30nm以下线宽，且光刻图案可编程修饰。

该技术有望用于集成电路、光电子器件、MEMS等器件的精密制造，助力超分辨光刻技术“换道超车”，摆脱国外限制。